10月8日，報道稱美光科技在官網(wǎng)宣布，計劃在紐約州中部打造一個巨型晶圓廠，以促進存儲芯片的生產(chǎn)。

聲明中表示，將向一期項目投資200億美元，在克萊鎮(zhèn)新建一個巨型工廠，2023年開始場地準備工作，2024年開始施工，2025年實現(xiàn)量產(chǎn)，并在2026年-2030年間根據(jù)行業(yè)需求逐步增產(chǎn)。

聲明指出，這座工廠最終可能包含四個60萬平方英尺的潔凈室——半導體工業(yè)生產(chǎn)廠房，總計面積能達到240萬平方英尺，規(guī)模接近40個橄欖球場的大小，創(chuàng)美國半導體行業(yè)歷史之最。

在未來20年，美光計劃向工廠總共投資高達1000億美元，能為當?shù)貏?chuàng)造約50,000個就業(yè)機會。在項目周期內(nèi)，紐約還將為該工廠提供55億美元的資金激勵，支持工廠招聘和資本投資。

美光透露，紐約工廠將采用最先進的半導體制造工藝和工具，包括極紫外線（EUV）光刻技術(shù)，以鞏固公司在DRAM行業(yè)中的領先地位。

美光科技首席執(zhí)行官此前表示，該工廠將生產(chǎn)廣泛用于數(shù)據(jù)中心、個人電腦和其他設備的DRAM芯片。